媲美光学光刻,日本学者紫外硬化纳米压印实现 10 纳米以下分辨率

2022-08-22 18:02爱集微 - 李沛

东京理科大学(TUS)学者日前在纳米压印技术研究上取得突破,实现了紫外硬化纳米压印(UV-NIL)创建 10 纳米以下分辨率形貌的突破。

UV-NIL 技术由于不需要高温高压条件,是一种备受瞩目的纳米压印技术方向,具有低成本制备媲美光学光刻质量图形的潜力,但此前受制于对光刻胶材料原子尺度特性的理解,难以实现小于 10 纳米分辨率,而 TUS 学者 Tadashi Ando 带领的团队基于对分子动力学模拟,阐明了光刻胶分子成分与压印过程的作用机制,发现并验证了适用于 UV-NIL 工艺的光刻胶材料。

Ando 表示,该团队研究成果可为未来选择与设计优化光刻胶材料提供指导,最终实现 10 纳米以下分辨率 UV-NIL 工艺的实用化

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