3bit V-NAND闪存,利用三星独有的3D电荷捕获型栅极存储单元结构技术,每片闪存芯片由32层垂直堆叠的存储单元组成,单片闪存的存储容量可达128GB,并且这种技术在最近推出的850 EVO已经开始投入量产。
在此之前,三星的V-NAND技术已经能够量产并且应用到自家的旗舰系列850 Pro固态硬盘上,同时这种技术也号称有着十年的生命期。对于渴望固态硬盘带来的高速快感,但是却因容量需求和价格被迫选择老式硬盘的用户,这必定是一个好消息。
科普:什么是3D V-NAND技术?
三星SSD全新3D V-NAND技术3D是指立体存储,V指的是垂直存储,说起来就是不再追求缩小cell单元,而是通过3D堆叠技术封装更多cell单元,这样也可以达到容量增多的目的。三星3D V-NAND技术分为两部分,3D(立体)化和V(垂直)堆叠化首先来看看3D化的含义:NAND使用的是浮栅极MOSFET,电子储存在栅极中,每次写入都会消耗栅极中的电子,一旦电子用光那就寿终正寝了三星放弃了传统的浮栅极结构,而是选择了用控制栅极和绝缘层将MOSFET环形包裹起来。这种3D环形结构设计提升了储存电荷的的物理区域,从而提高性能和可靠性。
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