为了在其第六代3D NAND芯片内堆叠128层,该公司不得不采用多层设计以及众多新技术,包括超均匀垂直蚀刻技术以及高可靠性多层薄膜电池形成技术。同时,为了在不增加器件功耗的情况下提高I / O总线的性能,SK海力士实现了超快速低功耗电路设计。
值得注意的是,与96层TLC NAND相比,过渡到CTF + PUC架构以及各种优化使SK Hynix能够将工艺步骤数减少5%,并将每个晶圆的钻头生产率提高40%。
SK海力士将在今年下半年开始出货的首批1 Tb 128层TLC NAND芯片将主要用于移动存储设备,如USB驱动器和存储卡。
最后, SK海力士表示目前正在开发176层4D NAND闪存,但没有透露何时可以推出。
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