此外,中国工程院院士、浙江大学微纳电子学院院长吴汉明也出席并发表讲话,他表示芯片制造工艺中有三大挑战,其中基础挑战为精密图形,核心挑战为新材料新工艺,终极挑战则是提升良率。
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