三星电子会长李在镕访问蔡司总部,深化 EUV 光刻和先进半导体设备合作
04月29日0评
可减少昂贵 EUV 光刻使用,德国默克称 DSA 自组装技术十年内商用
02月05日0评
1c 纳米世代内存竞争:三星计划增加 EUV 使用,美光将引入钼、钌材料
02月03日0评
韩国 ESOL 今年将展示第二代 EUV 原型设备
2023.02.110评
美光 CEO:中国台湾工厂今年将导入 EUV
2022.05.250评
Counterpoint:高数值孔径 EUV 系统将成 ASML 增长新突破口
2022.02.080评
韩国公司开发首款 EUV 光刻胶通过三星可靠性测试:打破完全依赖海外供应商的局面
2021.12.210评
中科院微电子所在“极紫外 EUV 光刻基板缺陷补偿”方面取得新进展
2021.09.160评
EUV 光刻的“致命弱点”
2021.06.240评
ASML 将于今年推出透光率超 90% 的 EUV 防护膜,提高光刻机效率
2021.05.150评
SK 海力士 M16 新厂竣工,将首次使用 EUV 光刻机生产
2021.02.020评
国内光刻机之殇:入华 32 年 ASML 出货 700 多台,但 EUV 被美国盯死,1.2 亿美元也难买
2020.11.090评
消息称台积电斥资 440 亿元采购 EUV 光刻机,官方回应:不评论传闻
2020.10.010评
台积电EUV光刻机安装数量占行业一半,晶圆产量达60%
2020.08.300评
三星宣布推出业界首款EUV DRAM,首批交付100万个
2020.03.250评
三星6nm、7nm EUV生产线正式开始量产
2020.02.200评
中芯国际声明:韩媒发布涉EUV不实报道,强烈谴责
2019.12.100评
三星宣布推出EUV技术7、11纳米LPP工艺:明年开始投产
2017.09.110评
遇到瓶颈了:Intel、三星7nm工艺受阻
2017.03.020评