光刻机

ASML 技术高级副总裁：已携手蔡司启动 5nm 分辨率 Hyper NA 光刻机开发

06月27日0评

台积电副联席 COO 张晓强：暂无为先进制程导入 High NA EUV 必要

05月28日0评

日本先进光刻机保有量上升，ASML 计划将驻日维护团队规模扩大至 5 倍

04月03日0评

ASML 发家史：从“漏雨棚屋”到全球光刻机领域领导者

03月23日0评

光刻机巨头 ASML 否认在北京新建维修中心：仅在原有基础上升级和扩建

03月06日0评

光刻机巨头 ASML 中国大陆 2024 年营收占比 36.1%，今年将在北京建维修中心

03月06日0评

ASML：向下一代光刻机的转变可能带来高昂成本，客户将面临艰难选择

03月05日0评

英特尔首批两台 ASML 高数值孔径光刻机已投产，可靠性翻倍

02月25日0评

尼康拟于 2028 财年推出新款浸没式 ArF 光刻机，与 ASML 主导生态兼容

02月19日0评

ASML 即将发货首台第二代 High NA EUV 光刻机 EXE:5200

02月01日0评

光刻机巨头 ASML：2025 年后不再按季度公布新增订单额

01月29日0评

美国实验室研发新型激光技术，有望大幅提升芯片制造效率

01月05日0评

因需求过高，ASML 取消非员工订购的 High-NA EUV 光刻机乐高模型

2024.12.230评

Rapidus 接收日本首台量产用 EUV 光刻机 ASML NXE:3800E

2024.12.190评

日本首台 ASML EUV 光刻机下月中旬运抵：用于 Rapidus 晶圆厂试产

2024.11.150评

在 AI 需求的推动下，ASML 预计 2030 年销售额达到 440 亿至 600 亿欧元

2024.11.140评

TechInsights：预计 ASML High NA EUV 光刻机功耗约 1400 千瓦

2024.11.040评

消息称三星电子 2025 年初引进其首台 ASML High NA EUV 光刻机

2024.10.300评

尼康官宣旗下首款半导体后端工艺用光刻机：1.0μm 分辨率，2026 财年发售

2024.10.240评