imec 首次成功利用 ASML High NA EUV 光刻机实现逻辑、DRAM 结构图案化
08月08日0评
消息指台积电最快 2028 年 A14P 制程引入 High NA EUV 光刻技术
07月29日0评
设备成本渐成先进制程重要因素，ASML Hyper NA EUV 光刻机价格恐破万亿韩元大关
07月02日0评
消息称英特尔考虑引入 DSA 技术辅助 High NA EUV 光刻，提升图案质量
04月19日0评
英特尔宣布世界首台商用 High NA EUV 光刻机完成组装，计划明年投入研发使用
三星研究员悲观看待 EUV 光刻技术寿命，认为 High-NA 方案面临成本问题
03月08日0评
