消息称英特尔考虑引入 DSA 技术辅助 High NA EUV 光刻，提升图案质量
04月19日0评
英特尔宣布世界首台商用 High NA EUV 光刻机完成组装，计划明年投入研发使用
三星研究员悲观看待 EUV 光刻技术寿命，认为 High-NA 方案面临成本问题
03月08日0评
