目标 2029 年不依赖 EUV 光刻机实现等效 5nm 的全国产方案，国内首条二维半导体工程化示范工艺线全线贯通
07月10日 0评
国内首条二维半导体工程化示范工艺线在沪点亮，计划今年 6 月正式通线
01月07日 0评
