英特尔确认 ASML 第二台 High NA EUV 光刻机完成安装
10月09日0评
消息称台积电首台 ASML High NA EUV 光刻系统本月进机
09月09日0评
英特尔计划与日本 AIST 合作建立芯片研究中心
09月03日0评
台积电：仍在评估 High NA EUV 光刻机，采用时间未定
07月30日0评
设备成本渐成先进制程重要因素，ASML Hyper NA EUV 光刻机价格恐破万亿韩元大关
07月02日0评
消息称台积电今明两年将接收超 60 台 EUV 光刻机，相关投资超四千亿新台币
07月01日0评
日本三井化学宣布量产新一代 CNT 光刻薄膜，支持 ASML 新一代光刻机
06月18日0评
光刻机巨头 ASML 联合创始人维姆・特鲁斯特逝世，享年 98 岁
06月12日0评
ASML 证实今年将向台积电交付价值 3.8 亿美元的高 NA EUV 光刻机
06月05日0评
佳能推出 FPD 曝光设备 MPAsp-E1003H，可用于生产车载大型特殊显示器及智能手机显示器
05月28日0评
Rapidus 确认将在 2nm 采用 0.33NA EUV 光刻机，已规划未来 1.4nm 节点
05月27日0评
ASML 着眼未来：考虑推出通用 EUV 光刻平台，覆盖不同数值孔径
05月23日0评
英特尔包圆 ASML 初始产能，获得今年全部高数值孔径 EUV 光刻机
05月08日0评
光刻机巨头 ASML 核心业务将留在荷兰，拟在埃因德霍芬大举投资
04月23日0评
英特尔 High NA EUV 光刻机今年晚些时候投入研发工作，有望在三代节点沿用
04月22日0评
英特尔宣布世界首台商用 High NA EUV 光刻机完成组装，计划明年投入研发使用
04月19日0评
阿斯麦向客户交付第二台 High NA EUV 光刻机，买家身份成谜
04月18日0评
阿斯麦 High-NA EUV 光刻机取得重大突破，成功印刷 10 纳米线宽图案
光刻机制造商阿斯麦一季度净利润 12 亿欧元，环比下降 40%
04月17日0评
ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻机引入部分 High-NA 机型技术，晶圆吞吐量提升近 22%
03月27日0评
