因需求过高，ASML 取消非员工订购的 High-NA EUV 光刻机乐高模型
12月23日0评
Rapidus 接收日本首台量产用 EUV 光刻机 ASML NXE:3800E
12月19日0评
日本首台 ASML EUV 光刻机下月中旬运抵：用于 Rapidus 晶圆厂试产
11月15日0评
在 AI 需求的推动下，ASML 预计 2030 年销售额达到 440 亿至 600 亿欧元
11月14日0评
TechInsights：预计 ASML High NA EUV 光刻机功耗约 1400 千瓦
11月04日0评
消息称三星电子 2025 年初引进其首台 ASML High NA EUV 光刻机
10月30日0评
尼康官宣旗下首款半导体后端工艺用光刻机：1.0μm 分辨率，2026 财年发售
10月24日0评
光刻机巨头阿斯麦下调 2025 年销售预期，股价暴跌 16%
10月16日0评
英特尔确认 ASML 第二台 High NA EUV 光刻机完成安装
10月09日0评
消息称台积电首台 ASML High NA EUV 光刻系统本月进机
09月09日0评
英特尔计划与日本 AIST 合作建立芯片研究中心
09月03日0评
台积电：仍在评估 High NA EUV 光刻机，采用时间未定
07月30日0评
设备成本渐成先进制程重要因素，ASML Hyper NA EUV 光刻机价格恐破万亿韩元大关
07月02日0评
消息称台积电今明两年将接收超 60 台 EUV 光刻机，相关投资超四千亿新台币
07月01日0评
日本三井化学宣布量产新一代 CNT 光刻薄膜，支持 ASML 新一代光刻机
06月18日0评
光刻机巨头 ASML 联合创始人维姆・特鲁斯特逝世，享年 98 岁
06月12日0评
ASML 证实今年将向台积电交付价值 3.8 亿美元的高 NA EUV 光刻机
06月05日0评
佳能推出 FPD 曝光设备 MPAsp-E1003H，可用于生产车载大型特殊显示器及智能手机显示器
05月28日0评
Rapidus 确认将在 2nm 采用 0.33NA EUV 光刻机，已规划未来 1.4nm 节点
05月27日0评
ASML 着眼未来：考虑推出通用 EUV 光刻平台，覆盖不同数值孔径
05月23日0评
