ASML 推出 High NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5000 乐高套装
2024.12.02 0评
imec 首次成功利用 ASML High NA EUV 光刻机实现逻辑、DRAM 结构图案化
2024.08.08 0评
消息指台积电最快 2028 年 A14P 制程引入 High NA EUV 光刻技术
2024.07.29 0评
设备成本渐成先进制程重要因素，ASML Hyper NA EUV 光刻机价格恐破万亿韩元大关
2024.07.02 0评
消息称英特尔考虑引入 DSA 技术辅助 High NA EUV 光刻，提升图案质量
2024.04.19 0评
英特尔宣布世界首台商用 High NA EUV 光刻机完成组装，计划明年投入研发使用
三星研究员悲观看待 EUV 光刻技术寿命，认为 High-NA 方案面临成本问题
2024.03.08 0评
