尼康 CEO 大村泰弘：将以性价比与 ASML 在 ArF 光刻机领域竞争

IT之家 5 月 29 日消息，据《日本亚洲》当地时间今日报道，Nikon（尼康）新任 CEO 大村泰弘表示，该企业将以性价比与 ASML 在 ArF 光刻机领域竞争。

大村泰弘称尼康通过较高的自产零组件比例建立了成本上的优势，这是其打价格战的底气。尼康正与美洲、亚洲主要芯片制造商就 ArF 光刻机的新订单进行谈判，最终协议即将达成。

这位今年 4 月履新的日本光学大厂掌门人承认，尼康在 ArF 光刻机业务上传统依赖于 Intel（英特尔）的订单，尚未能在其它客户中取得足够的业绩记录，其支持能力还没有赢得信任。

IT之家注意到，尼康规划了与 ASML 主导的生态兼容的新款浸没式 ArF 光刻机，此外其计划在 2026 财年内出货首台新一代干式 ArF 光刻机 "NSR-S333F"。

延伸阅读

在浸没式 ArF 光刻机市场，ASML 凭借其成熟的 TWINSCAN 双工件台技术占据了超过九成的市场份额，尼康是当前该市场仅有的另一位参与者。

尼康计划推出的新款浸没式 ArF 光刻机旨在与 ASML 主导的生态兼容，目标是方便原计划采用 ASML 光刻机的用户迁移至尼康平台，该产品计划于 2028 财年（2027 年 4 月至 2028 年 3 月间）推出。

ArF 光刻机根据镜头和光刻胶之间介质的不同，分为干法和浸没式两种工艺，对应的 ArF 光刻胶也分为干法和浸没式两类。

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