美国实验室研发新型激光技术，有望大幅提升芯片制造效率
01月05日0评
因需求过高，ASML 取消非员工订购的 High-NA EUV 光刻机乐高模型
2024.12.230评
Rapidus 接收日本首台量产用 EUV 光刻机 ASML NXE:3800E
2024.12.190评
日本首台 ASML EUV 光刻机下月中旬运抵：用于 Rapidus 晶圆厂试产
2024.11.150评
在 AI 需求的推动下，ASML 预计 2030 年销售额达到 440 亿至 600 亿欧元
2024.11.140评
TechInsights：预计 ASML High NA EUV 光刻机功耗约 1400 千瓦
2024.11.040评
消息称三星电子 2025 年初引进其首台 ASML High NA EUV 光刻机
2024.10.300评
尼康官宣旗下首款半导体后端工艺用光刻机：1.0μm 分辨率，2026 财年发售
2024.10.240评
光刻机巨头阿斯麦下调 2025 年销售预期，股价暴跌 16%
2024.10.160评
英特尔确认 ASML 第二台 High NA EUV 光刻机完成安装
2024.10.090评
消息称台积电首台 ASML High NA EUV 光刻系统本月进机
2024.09.090评
英特尔计划与日本 AIST 合作建立芯片研究中心
2024.09.030评
台积电：仍在评估 High NA EUV 光刻机，采用时间未定
2024.07.300评
设备成本渐成先进制程重要因素，ASML Hyper NA EUV 光刻机价格恐破万亿韩元大关
2024.07.020评
消息称台积电今明两年将接收超 60 台 EUV 光刻机，相关投资超四千亿新台币
2024.07.010评
日本三井化学宣布量产新一代 CNT 光刻薄膜，支持 ASML 新一代光刻机
2024.06.180评
光刻机巨头 ASML 联合创始人维姆・特鲁斯特逝世，享年 98 岁
2024.06.120评
ASML 证实今年将向台积电交付价值 3.8 亿美元的高 NA EUV 光刻机
2024.06.050评
佳能推出 FPD 曝光设备 MPAsp-E1003H，可用于生产车载大型特殊显示器及智能手机显示器
2024.05.280评
Rapidus 确认将在 2nm 采用 0.33NA EUV 光刻机，已规划未来 1.4nm 节点
2024.05.270评
