消息称 ASML 要对台积电设备涨价，郭明錤反驳称台积电反而会砍价
10月18日0评
仅次于光刻、我国半导体制造核心技术突破，核力创芯首批氢离子注入性能优化芯片产品交付
09月11日0评
三星被曝最快 2024 年底前开始安装首台 ASML High-NA EUV 光刻机
08月16日0评
阿斯麦 2024 年第二季度净销售额 62.4 亿欧元同比下滑 9.57%，毛利率 51.5%
07月17日0评
0.75 NA 突破芯片设计极限！Hyper-NA EUV 首现 ASML 路线图：2030 年推出，每小时产 400-500 片晶圆
06月14日0评
代工一哥直呼太贵，台积电考虑 A16 节点不用 ASML 的 High-NA EUV 设备
05月15日0评
SK 海力士宣布业界率先完成氖气回收技术开发，每年可节省 400 亿韩元
04月02日0评
三星研究员悲观看待 EUV 光刻技术寿命，认为 High-NA 方案面临成本问题
03月08日0评
三星与应用材料合作，减少 4nm 工艺中 EUV 光刻使用
氖气价格“过山车”式飙升，三星考虑用回收氖气：明年满足 75% 光刻需求
可减少昂贵 EUV 光刻使用，德国默克称 DSA 自组装技术十年内商用
02月05日0评
英特尔 CEO 基辛格：不会放弃使用外部代工，High-NA EUV 将于下一个“Major”节点导入
01月30日0评
ASML 和 IMEC 宣布共同开发 high-NA EUV 光刻试验线
2023.06.290评
计算光刻速度提高 40 倍，台积电预计 6 月将英伟达 AI 加速技术 cuLitho 导入 2nm 试产
2023.03.220评
纳米压印光刻，能让国产绕过 ASML 吗
2023.03.200评
佳能推出晶圆测量机新品 MS-001：比光刻机精度更高，可提高生产效率
2023.02.210评
华中科技大学团队成功研发国内首款全自主计算光刻 EDA 之 OPC 软件
2022.11.260评
上海集成电路材料研究院采用创新范式提高光刻材料研发效率
2022.08.140评
国产 EDA 新突破，东方晶源推出计算光刻云方案
2022.07.160评
长鑫存储公开“半导体光刻补偿方法”专利
2022.07.020评
