SK 海力士宣布业界率先完成氖气回收技术开发,每年可节省 400 亿韩元
04月02日0评
三星研究员悲观看待 EUV 光刻技术寿命,认为 High-NA 方案面临成本问题
03月08日0评
三星与应用材料合作,减少 4nm 工艺中 EUV 光刻使用
氖气价格“过山车”式飙升,三星考虑用回收氖气:明年满足 75% 光刻需求
可减少昂贵 EUV 光刻使用,德国默克称 DSA 自组装技术十年内商用
02月05日0评
英特尔 CEO 基辛格:不会放弃使用外部代工,High-NA EUV 将于下一个“Major”节点导入
01月30日0评
ASML 和 IMEC 宣布共同开发 high-NA EUV 光刻试验线
2023.06.290评
计算光刻速度提高 40 倍,台积电预计 6 月将英伟达 AI 加速技术 cuLitho 导入 2nm 试产
2023.03.220评
纳米压印光刻,能让国产绕过 ASML 吗
2023.03.200评
佳能推出晶圆测量机新品 MS-001:比光刻机精度更高,可提高生产效率
2023.02.210评
华中科技大学团队成功研发国内首款全自主计算光刻 EDA 之 OPC 软件
2022.11.260评
上海集成电路材料研究院采用创新范式提高光刻材料研发效率
2022.08.140评
国产 EDA 新突破,东方晶源推出计算光刻云方案
2022.07.160评
长鑫存储公开“半导体光刻补偿方法”专利
2022.07.020评
消息称光刻机巨头 ASML 正寻找氖气替代来源,以防俄乌冲突导致供应中断
2022.02.240评
EUV 光刻的“致命弱点”
2021.06.240评
中科院上海光机所计算光刻技术研究取得进展
2021.06.100评
科创板直写光刻第一股芯碁微装背后:五大客户逐年变动,曾陷专利官司
2021.04.020评
国内苏大维格公布最新 3D 直写光刻技术:实现光刻胶 3D 形貌可控制备
2020.10.120评
长春光机所 1.5 米扫描干涉场曝光系统顺利通过验收
2020.09.040评