盛美上海首次推出 Ultra Pmax PECVD 设备，支持逻辑和存储芯片制造
2022.12.120评
盛美上海进军涂胶 / 显影 Track 市场：ArF 型号将于 Q4 交付，可满足半导体光刻工艺需求
2022.11.210评
盛美上海：公司获得美国某主要客户两台订单，分别将于 Q2 末和 Q3 初交付
2022.06.210评
盛美上海声明：公司与 Semes 前雇员涉嫌盗取技术案件完全无关
2022.06.020评
盛美上海推出新型化合物半导体系列设备加强湿法工艺产品线
2022.01.310评
盛美半导体首台 12 英寸单晶圆薄片清洗设备提前获得验收
2021.01.140评
