璞璘交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻机，支持＜10nm 线宽

IT之家 8 月 5 日消息，璞璘科技 PRINANO 今日宣布其在 8 月 1 日成功向一家国内特色工艺客户交付其自主研发的中国首台半导体级步进式纳米压印光刻 _(NIL) 系统 PL-SR。

璞璘在 PL-SR 系列设备上成功攻克喷墨涂胶工艺多项技术瓶颈，实现了纳米级的压印膜厚，达到了平均残余层＜10nm、残余层变化＜2nm、压印结构深宽比＞7:1 的技术指标，可对应线宽＜10nm 的 NIL 工艺。

璞璘科技表示其 PL-SR 系列喷墨步进式纳米压印设备目前已经初步完成存储芯片、硅基 (oS) 微显示器、硅光 (SiPh) 及先进封装 (AVP) 等芯片研发验证；其最小可实现 20mm×20mm 压印模板均匀拼接，最终可实现 12 英寸晶圆级超大模板。

广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，IT之家所有文章均包含本声明。