璞璘交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻机，支持＜10nm 线宽
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佳能向美国得克萨斯电子研究所交付其最先进纳米压印光刻 NIL 系统
2024.09.270评
媲美光学光刻，日本学者紫外硬化纳米压印实现 10 纳米以下分辨率
2022.08.220评
